标题：ECCV 2024 | 一眼临摹：华南理工大学等团队研发AI笔迹模仿技术
副标题：仅需单张样本，AI即可完美复制用户书写风格
正文：
在即将举行的欧洲计算机视觉会议（ECCV 2024）上，来自华南理工大学、新加坡国立大学、昆仑万维以及琶洲实验室的研究者们提出了一种创新的风格化手写文字生成方法。该方法仅需提供单张参考样本，即可精确临摹用户的书写风格，支持英文、中文和日文三种文字的模仿。
这项名为“一眼临摹”的AI技术，是手写体自动临摹领域的一项突破。传统的笔迹模仿AI需要用户提供多张书写样本作为风格参考，而“一眼临摹”AI则大大简化了这一过程，用户只需提供一张书写样本，即可生成一套符合自己书写风格的电子字体。这种字体不仅能够用于社交和办公软件中，帮助用户更好地表达个性和传递情感，还能兼顾传统手写的人情味和数字化时代的高效表达。
研究者们在去年CVPR 2023上提出的笔迹模仿工作基础上，进一步优化了算法，使得AI能够仅通过单张样本即可完成风格临摹。这一改进解决了用户在使用过程中的繁琐问题，提高了效率和便捷性。
“一眼临摹”AI的关键技术包括拉普拉斯风格增强模块和自适应过滤噪声的门控机制。拉普拉斯风格增强模块能够从单张书写样本中提取清晰的高频风格模式，而自适应门控机制则能够过滤掉样本中的背景噪声，确保生成的手写文字既保留了用户的书写风格，又避免了噪声的干扰。
研究团队提出的One-DM（One-Shot Diffusion Mimicker）模型的整体框架包含高频风格编码器、空域风格编码器、内容编码器、风格-内容融合模块和扩散生成模块。该模型通过这些模块的协同工作，实现了从单张样本到完整手写文本的生成。
实验结果显示，One-DM在多个英文、中文和日文数据集上均取得了优异的临摹性能，超过了之前需要多张样本的笔迹模仿技术。
目前，该论文的代码和数据已经开源，感兴趣的读者可以访问以下链接进行尝试：
– 论文地址：https://arxiv.org/abs/2409.04004
– 代码开源：https://github.com/dailenson/One-DM
这项技术的提出，不仅为手写文字生成领域带来了新的可能性，也为人工智能在数字化转型中的应用开辟了新的道路。
请注意，以上新闻稿是根据您提供的信息编写的，具体的技术细节和研究成果应以实际发表的论文为准。
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