IT之家 10 月 2 日消息
康宁公司今天发布了新一代 Extreme ULE 玻璃材料，该材料将在 9 月 30 日至 10 月 3 日于加州蒙特雷举行的 SPIE 光掩模技术 + 极紫外光刻会议上进行展示。这一新型玻璃材料将为芯片制造商改进芯片设计的模板“光掩模”提供支持，适用于极紫外光（EUV）光刻，具有极低的膨胀特性，适用于 EUV 光掩模和光刻镜，对于大规模生产最先进、最具成本效益的微芯片至关重要。
光掩模的重要性
光掩模是微纳加工技术中常用的光刻工艺所使用的图形母版，可在透明玻璃板表面的遮光膜上蚀刻加工非常微细的电路图案，从而利用光刻蚀技术将图案复刻到晶圆上。EUV 光刻需要使用最先进的光掩模来完成图案化和印刷过程，而这个过程需要极端的热稳定性和均匀的玻璃材料，以确保实现一致的制造性能。
康宁的技术突破
康宁高级光学副总裁兼总经理 Claude Echahamian 表示，“Extreme ULE 玻璃可实现更高功率的 EUV 制造以及更高的良率，扩大康宁在持续追求摩尔定律方面的关键作用。”这种新型玻璃材料具有接近 0 的膨胀特性，能够承受极紫外光（EUV）光刻的高强度，这对于制造最先进的微芯片至关重要。
未来展望
康宁公司此次发布的 Extreme ULE 玻璃材料将进一步推动半导体行业的发展，特别是对于 EUV 光刻技术的广泛应用。随着技术的不断进步，未来将有更多的芯片制造商能够利用这一新型材料来生产更先进、更高效的微芯片，从而满足日益增长的高性能计算需求。
结论
康宁公司此次发布的 Extreme ULE 玻璃材料不仅展示了公司在半导体材料领域的技术实力，也为微芯片生产带来了新的可能性。未来，随着更多相关技术的开发和应用，我们有理由相信，微芯片生产将迈向一个全新的高度。
参考资料
- IT之家. (2024, 10, 2). 康宁推出适用于下一代微芯片生产的 Extreme ULE 玻璃，可适用于 EUV 光掩模和光刻镜. [Online]. Available: https://it之家.com
通过以上文章，我们不仅介绍了康宁公司推出的新一代 Extreme ULE 玻璃材料的重要意义，还探讨了其在微芯片生产中的应用前景。希望这篇深度报道能够为读者带来更多的思考和启发。
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